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走査電子顕微鏡(電源立地地域対策交付金)

機器概要
メーカー (株)日立ハイテク
型式 SU5000
用途 電子銃から放出される電子線を試料に照射し、試料から発生する二次電子等を検出し、試料表面を微細に観察する装置です。また、検出器にエネルギー分散型X線分析装置(EDS)と後方散乱電子回折装置(EBSD)を備えることで試料の元素分析(定性・半定量)や結晶方位解析が可能です。
仕様

【走査電子顕微鏡】(株)日立ハイテク SU5000

・電子銃:ショットキーエミッション電子銃

・加速電圧:0.5~30kV

・写真倍率:10~600,000倍

・試料サイズ:最大直径200mm,最高80mm

・検出器:二次電子検出器,高感度低真空検出器(UVD),半導体形反射電子検出器(PD-BSD)


【エネルギー分散型X線分析装置】 AMETEK Octane Elect Super

・Be〜Uまでの定性,半定量分析が可能


【後方散乱電子回折装置】 AMETEK  DegiView5

・測定スピード 120点/秒

・角度精度 1°

購入年 2023年4月

活用事例はこちら (545KB; PDFファイル)

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材料環境部 TEL:0952-30-8163

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